99,95 Molybdän reines Molybdänprodukt Moly Sheet Moly Plattenmolyfolie in Hochtemperaturöfen und assoziierten Geräten
Produktparameter
Artikel | Molybdänblatt/Platte |
Grad | Mo1, Mo2 |
Lagergröße | 0,2 mm, 0,5 mm, 1 mm, 2 mm |
MOQ | heißes Rollen, Reinigung, poliert |
Aktie | 1 Kilogramm |
Eigentum | Antikorrosion, Hochtemperaturresistenz |
Oberflächenbehandlung | Heißrollte alkalische Reinigungsfläche |
Elektrolytisch -polnische Oberfläche | |
Kaltgereiste Oberfläche | |
Bearbeitete Oberfläche | |
Technologie | Extrusion, Schmieden und Rollen |
Test und Qualität | Dimensionsinspektion |
Erscheinungsqualitätstest | |
Prozessleistungstest | |
Mechanische Schreckens Test | |
Die Spezifikation würde durch die Anforderungen der Kunden geändert. |
Spezifikation
Breite, mm | Dicke, mm | Dickenabweichung, min, mm | Flachheit, % | |||
<300mm | > 0,13 mm | ± 0,025 mm | 4% | |||
≥ 300 mm | > 0,25 mm | ± 0,06 mm | 5%-8% | |||
Reinheit(%) | Ag | Ni | P | Cu | Pb | N |
<0,0001 | <0,0005 | <0,001 | <0,0001 | <0,0001 | <0,002 | |
Si | Mg | Ca | Sn | Ba | Cd | |
<0,001 | <0,0001 | <0,001 | <0,0001 | <0,0003 | <0,001 | |
Na | C | Fe | O | H | Mo | |
<0,0024 | <0,0033 | <0,0016 | <0,0062 | <0,0006 | > 99.97 |
Spezifikation
Spezifikationen für Molybdändraht: | ||
Molybdän -Drahttypen | Durchmesser (Zoll) | Toleranz (%) |
Molybdändraht für EDM | 0,0024 "~ 0,01" | ± 3% Gew |
Molybdän -Sprühdraht | 1/16 "~ 1/8" | ± 1% bis 3% WT |
Molybdändraht | 0,002 "~ 0,08" | ± 3% Gew |
Molybdändraht (sauber) | 0,006 "~ 0,04" | ± 3% Gew |
Spezifikationsbereich
1) Dicke:Heißgeschwollte Platte: 1,5 ~ 40 mm;Kaltplatte/Blatt: 0,05 ~ 3,0 mm
2) Breite:Heißgeschwollte Platte: ≤ 750 mm;Kaltplatte/Blatt: ≤ 1050 mm;
3) Länge:Heißgeschwollte Platte: ≤ 3500 mm;Kaltplatte/Blatt: ≤2500 mm
Anwendung
Einstufung | Besonderheit | Anwendungsfeld |
Reine Mo -Platte | Hoher Schmelzpunkt, hohe Reinheit, niedrige thermische Expansivität, ausgezeichnete thermische Leitfähigkeit, Schweißleistung und Verarbeitbarkeit | Häufig zur Herstellung von Elektronenstrahlstrahl -Strahl -Sputterziel, Ersatzteile für Ionenimplantationsmaschine, Kühlkörper des Halbleiters, Teile des Elektronenrohrs, der MocvD -Geräte und der medizinischen Geräte, der heißen Zone, des Tiegels und der Stützelemente für Saphirkristallofen, Heizung, Heizung, Heizung, Heizung, Heizung, Wärmeschild, Stützelement und Boot für Vakuum- und Wasserstoffabschützerheizofen |
Reine Mo -Platte mit hoher Temperatur behandelt | Hoher Purität, konsistent in physikalischer und chemischer Eigenschaft und ausgezeichnete Hochtemperatur-Anti-Deforming-Fähigkeit | Geeignet für die Herstellung von Grundplatten für Präzisions-elektronische Keramik und Hinterwassermaterial |
Lanthanum-dotierte MO-Platte | Durch die Verwendung von Oxiddispersionsverstärkungsmechanismus konnte nach der Behandlung mit hoher Festigkeit, hoher Rekristallisierungstemperatur und hervorragender Hochtemperaturstärke und verbesserter Rekristallisation Britterung und hohe Temperatur Anti-Deforming-Fähigkeit eine gewisse plastische Verformung unter Raumtemperatur durchgeführt werden | Besonders geeignet für die Herstellung von Komponenten, die in mehr als 1500 ° C -Arbeitsumgebung verwendet werden, wie Heizung, Wärmeschild, Grundplatte und Boot für Hochtemperaturofen |
Lanthan-dotierte MO-Platte, die mit hoher Temperatur behandelt wurde | Ausgezeichnete Hochtemperaturstärke und niedrige Hochtemperaturverformung aufgrund der Verstärkung der Oxiddispersion und der spezifischen Struktur | Geeignet für die Herstellung von Grundplatten für die Sinterfeinkeramik und die Rückerd-Keramik, den Lagerregal, die Grundplatte und die Schicht für Hochtemperaturheizofen |
Dotierte MO -Platte | Hochtemperaturfestigkeit, niedrige Rekristallisierungstemperatur und ausgezeichnete Hochtemperaturkriechfest-Leistung aufgrund seines Kaliumblasenverstärkungsmechanismus | Besonders geeignet für die Herstellung von Produkten mit geringem Kriechen mit hohem Temperatur, z. B. Komponenten für Elektronenrohr, Heizung, Wärmeschild usw. für Hochtemperaturofen |
Dotierte MO -Platte mit hoher Temperatur behandelt | Niedrigem Temperaturkriechen aufgrund seiner langen, körnigen gestaffelten Struktur und hoher Reinheit | Geeignet für die Herstellung von Produkten mit hohem Bedarf an Reinheit und Hochtemperaturkriechen, wie z. |
Kreuzrollte reine MO-Platte | Niedrige Anisotropie und gute Biegeleistung | Besonders geeignet, um sich zu verlängern, zu drehen, zu verstärken und zu beugen und zu delongierenden oder drehenden MO -Crucible zu machen. |
Mit hoher Temperatur behandelter reine reine MO-Platte, die mit hoher Temperatur behandelt wurde | Niedrige Anisotropie und gute Biegeleistung sowie die gleiche Leistung von Lanthan-dotiertem Mo-Platte | Besonders geeignet für die Verstärkung und Biegung sowie die Herstellung verstärkter oder gebeudeter MO-Teile mit hoher Temperaturbedarf, z. |
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