99,95 Molybdän Reines Molybdänprodukt Molybdänblech Molybdänplatte Molybdänfolie In Hochtemperaturöfen und zugehöriger Ausrüstung
Produktparameter
Artikel | Molybdänblech/-platte |
Grad | Mo1, Mo2 |
Lagergröße | 0,2 mm, 0,5 mm, 1 mm, 2 mm |
Mindestbestellmenge | Warmwalzen, Reinigen, Polieren |
Aktie | 1 Kilogramm |
Eigentum | Korrosionsschutz, hohe Temperaturbeständigkeit |
Oberflächenbehandlung | Warmgewalzte alkalische Reinigungsoberfläche |
Elektrolytisch polierte Oberfläche | |
Kaltgewalzte Oberfläche | |
Bearbeitete Oberfläche | |
Technologie | Strangpressen, Schmieden und Walzen |
Test und Qualität | Maßprüfung |
Aussehensqualitätstest | |
Prozessleistungstest | |
Prüfung der mechanischen Eigenschaften | |
Die Spezifikation würde durch die Anforderungen der Kunden geändert. |
Spezifikation
Breite, mm | Dicke, mm | Dickenabweichung, min., mm | Ebenheit, % | |||
<300 mm | >0,13 mm | ±0,025 mm | 4% | |||
≥300 mm | >0,25 mm | ±0,06 mm | 5 % – 8 % | |||
Reinheit(%) | Ag | Ni | P | Cu | Pb | N |
<0,0001 | <0,0005 | <0,001 | <0,0001 | <0,0001 | <0,002 | |
Si | Mg | Ca | Sn | Ba | Cd | |
<0,001 | <0,0001 | <0,001 | <0,0001 | <0,0003 | <0,001 | |
Na | C | Fe | O | H | Mo | |
<0,0024 | <0,0033 | <0,0016 | <0,0062 | <0,0006 | >99,97 |
Spezifikation
Spezifikationen für Molybdändraht: | ||
Molybdändrahttypen | Durchmesser (Zoll) | Toleranz (%) |
Molybdändraht für EDM | 0,0024" ~ 0,01" | ±3 % Gewicht |
Molybdän-Sprühdraht | 1/16" ~ 1/8" | ±1 % bis 3 % Gewicht |
Molybdändraht | 0,002" ~ 0,08" | ±3 % Gewicht |
Molybdändraht (sauber) | 0,006" ~ 0,04" | ±3 % Gewicht |
Spezifikationen Bereich
1) Dicke:Warmgewalzte Platte: 1,5 bis 40 mm;Kaltgewalzte Platte/Blech: 0,05–3,0 mm
2) Breite:Warmgewalzte Platte: ≤750 mm;Kaltgewalzte Platte/Blech: ≤1050 mm;
3) Länge:Warmgewalzte Platte: ≤3500 mm;Kaltgewalzte Platte/Blech: ≤2500mm
Anwendung
Einstufung | Besonderheit | Anwendungsfeld |
Reine Mo-Platte | Hoher Schmelzpunkt, hohe Reinheit, geringe Wärmeausdehnung, hervorragende Wärmeleitfähigkeit, Schweißleistung und Verarbeitbarkeit | Weit verbreitet für die Herstellung von Elektronenstrahl-(Ionen-)Sputtertargets, Ersatzteilen für Ionenimplantationsmaschinen, Kühlkörpern für Halbleiter, Teilen von Elektronenröhren, MOCVD-Geräten und medizinischen Geräten, Heißzonen, Tiegeln und Stützelementen für Saphirkristallöfen, Heizgeräten, Hitzeschilden, Stützelementen und Booten für Vakuum- und wasserstoffgeschützte Heizöfen |
Reine Mo-Platte, hochtemperaturbehandelt | Hohe Reinheit, konsistente physikalische und chemische Eigenschaften und ausgezeichnete Beständigkeit gegen Verformungen bei hohen Temperaturen | Geeignet zur Herstellung von Grundplatten für Präzisionselektronikkeramik und Sekundärerdmaterial |
Lanthan-dotierte Mo-Platte | Durch die Verwendung eines Oxiddispersionsverfestigungsmechanismus konnten bestimmte plastische Verformungen bei Raumtemperatur durchgeführt werden, nachdem sie bei hohen Temperaturen behandelt wurden, aufgrund ihrer hohen Festigkeit, hohen Rekristallisationstemperatur und ausgezeichneten Hochtemperaturfestigkeit sowie verbesserter Rekristallisationssprödigkeit und Hochtemperatur-Antiverformungsfähigkeit | besonders geeignet für die Herstellung von Komponenten, die in Arbeitsumgebungen mit Temperaturen über 1500 °C verwendet werden, wie etwa Heizgeräte, Hitzeschilde, Grundplatten und Boote für Hochtemperaturöfen |
Mit Lanthan dotierte Mo-Platte, die bei hoher Temperatur behandelt wurde | Hervorragende Hochtemperaturfestigkeit und geringe Hochtemperaturverformung aufgrund der oxiddispersionsverfestigenden Wirkung und der spezifischen Struktur | geeignet zur Herstellung von Grundplatten zum Sintern von Feinkeramik und Seltenerdkeramik, Lagergestell, Grundplatte und Mantel für Hochtemperatur-Heizöfen |
Dotierte Mo-Platte | Hohe Temperaturfestigkeit, niedrige Rekristallisationstemperatur und ausgezeichnete Kriechfestigkeit bei hohen Temperaturen aufgrund des Kaliumblasenverfestigungsmechanismus | besonders geeignet für die Herstellung von Produkten mit geringem Hochtemperaturkriechen, wie z. B. Komponenten für Elektronenröhren, Heizgeräte, Hitzeschilde usw. für Hochtemperaturöfen |
Bei hoher Temperatur behandelte dotierte Mo-Platte | Geringe Kriechneigung bei hohen Temperaturen aufgrund der langkörnigen, versetzten Struktur und der hohen Reinheit | Geeignet für die Herstellung von Produkten mit hohen Anforderungen an Reinheit und Hochtemperaturkriechen, wie z. B. Grundplatten für das Sintern oder die Wärmebehandlung elektronischer Keramik, Stützelemente in Elektronenröhren usw. |
Kreuzgewalzte reine Mo-Platte | Geringe Anisotropie und gutes Biegeverhalten | Besonders geeignet zum Dehnen, Spinnen, Verstärken und Biegen sowie zum Herstellen von Dehnen oder Spinnen von Mo-Tiegeln. Mo-Teile müssen verstärkt oder gebogen werden, wie z. B. Wellblech, Biegestück, Mo-Boot usw. |
Kreuzgewalzte reine Mo-Platte, bei hoher Temperatur behandelt | Geringe Anisotropie und gute Biegeleistung bei gleicher Leistung wie bei einer mit Lanthan dotierten Mo-Platte | besonders geeignet zum Verstärken und Biegen sowie zur Herstellung verstärkter oder gebogener Mo-Teile mit hohen Temperaturanforderungen, wie z. B. Heizzonen, gebogene Fertigungsteile, Hochtemperatur-Mo-Boote usw. |
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