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Hochreine 99,8% Titan Grad 7 runde Sputtertargets, Ti-Legierungstarget für Beschichtungsfabriken, Lieferant

Kurzbeschreibung:

Produktbezeichnung: Titan-Target für PVD-Beschichtungsanlage

Güteklasse: Titan (Gr1, Gr2, Gr5, Gr7, GR12)

Legierungsziel: Ti-Al, Ti-Cr, Ti-Zr usw

Herkunft: Baoji-Stadt, Provinz Shaanxi, China

Titangehalt: ≥99,5 %

Verunreinigungsgehalt: <0,02 %

Dichte: 4,51 oder 4,50 g/cm³

Normen: ASTM B381; ASTM F67, ASTM F136


Produktdetails

Produkt-Tags

Produktparameter

Produktname Titan-Target für PVD-Beschichtungsanlage
Grad Titan (Gr1, Gr2, Gr5, Gr7, GR12)Legierungsziel: Ti-Al, Ti-Cr, Ti-Zr usw
Herkunft Baoji-Stadt, Provinz Shaanxi, China
Titangehalt ≥99,5 (%)
Verunreinigungsgehalt <0,02 (%)
Dichte 4,51 oder 4,50 g/cm³
Standard ASTM B381; ASTM F67, ASTM F136
Größe 1. Rundes Ziel: Ø30--2000mm, Dicke 3,0mm--300mm;2. Plattengröße: Länge: 200-500 mm Breite: 100-230 mm Dicke: 3-40 mm;3. Rohrziel: Durchmesser: 30-200 mm, Wandstärke: 5-20 mm, Länge: 500-2000 mm;4. Individuelle Anpassung ist möglich
Technik Geschmiedet und CNC-gefräst
Anwendung Halbleitertrennung, Filmbeschichtungsmaterialien, Beschichtung von Speicherelektroden, Sputterbeschichtung, Oberflächenbeschichtung, Glasbeschichtungsindustrie.

Chemische Anforderungen an das Titan-Target

ASTM B265

GB/T 3620.1

JIS H4600

Elementgehalt (≤ Gew.-%)

N

C

H

Fe

O

Andere

Reines Titan

Gr.1

TA1

Klasse 1

0,03

0,08

0,015

0,20

0,18

/

Gr.2

TA2

Klasse 2

0,03

0,08

0,015

0,30

0,25

/

TitanLegierung

Gr. 5

TC4Ti-6Al-4V

Klasse 60

0,05

0,08

0,015

0,40

0,2

Al:5,5-6,75

V:3,5-4,5

Gr.7

TA9

Klasse 12

0,03

0,08

0,015

0,30

0,25

Pd:0,12-0,25

12. Klasse

TA10

Klasse 60E

0,03

0,08

0,015

0,30

0,25

Mo:0,2-0,4

Ni:0,6-0,9

Längsmechanische Eigenschaften bei Raumtemperatur

Grad

ZugfestigkeitRm/MPa (>=)

StreckgrenzeRp0,2 (MPa)

VerlängerungA4D (%)

FlächenreduzierungZ (%)

Gr1

240

140

24

30

Gr2

400

275

20

30

Gr5

895

825

10

25

Gr7

370

250

20

25

Gr12

485

345

18

25

Titan-Sputtertargets

Gängige Größen von Titan-Sputtertargets: Φ100*40, Φ98*40, Φ95*45, Φ90*40, Φ85*35, Φ65*40 usw.

Wir können die Anpassung auch an Kundenwünsche oder Zeichnungen anpassen.

Zielvorgaben: hohe Reinheit, einheitliche Kristallkörner und gute Kompaktheit.

Reinheit: 99,5 %, 99,95 %, 99,98 %, 99,995 %.

Produktionsprozess für Titan-Targets

Titanschwamm --- zu Titanbarren geschmolzen --- Prüfung --- Zuschneiden des Barrens --- Schmieden --- Walzen --- Schälen --- Richten --- Ultraschallprüfung --- Verpackung

Merkmale des Titan-Ziels

1. Niedrige Dichte und hohe Festigkeit gemäß Spezifikation

2. Ausgezeichnete Korrosionsbeständigkeit

3. Gute Beständigkeit gegenüber Hitzeeinwirkung

4. Hervorragende Lagerfähigkeit für Tieftemperaturanwendungen

5. Nicht magnetisch und ungiftig

6. Gute thermische Eigenschaften

7. Niedriger Elastizitätsmodul


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