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High Pure 99,8% Titangrad 7 Runden Sputter -Ziele Ti -Legierung Ziel für Beschichtungsfabriklieferant

Kurzbeschreibung:

Produktname: Titan -Ziel für PVD -Beschichtungsmaschine

Grad: Titan (Gr1, Gr2, Gr5, Gr7, Gr12)

Legierungsziel: ti-al, ti-cr, ti-zr usw.

Herkunft: Baoji Stadt Shaanxi Provinz China

Titangehalt: ≥ 99,5 (%)

Verunreinigungsinhalt: <0,02 (%)

Dichte: 4,51 oder 4,50 g/cm3

Standard: ASTM B381; ASTM F67, ASTM F136


Produktdetail

Produkt -Tags

Produktparameter

Produktname Titanziel für PVD -Beschichtungsmaschine
Grad Titan (Gr1, Gr2, Gr5, Gr7, Gr12)Legierungsziel: ti-al, ti-cr, ti-zr usw.
Herkunft Baoji Stadt Shaanxi Provinz China
Titaninhalt ≥ 99,5 (%)
Verunreinigungsinhalt <0,02 (%)
Dichte 4,51 oder 4,50 g/cm3
Standard ASTM B381; ASTM F67, ASTM F136
Größe 1. Runde Ziel: Ø30--2000 mm, Dicke 3,0 mm-300 mm;2. Platten-Targe: Länge: 200-500 mm Breite: 100-230 mm Dicke: 3-40 mm;3. Rohrziel: Durchmesser: 30-200 mm Dicke: 5-20 mm Länge: 500-2000 mm;4.. Customized ist verfügbar
Technik Geschmiedet und CNC bearbeitet
Anwendung Halbleitertrennung, Filmbeschichtungsmaterialien, Speicherelektrodenbeschichtung, Sputterbeschichtung, Oberflächenbeschichtung, Glasbeschichtungsindustrie.

Chemische Anforderungen des Titan -Ziels

ASTM B265

GB/T 3620.1

JIS H4600

Elementarinhalt (≤ wt%)

N

C

H

Fe

O

Andere

Titan rein

Gr.1

Ta1

Klasse1

0,03

0,08

0,015

0,20

0,18

/

Gr.2

Ta2

Klasse2

0,03

0,08

0,015

0,30

0,25

/

TitanLegierung

Gr.5

TC4Ti-6Al-4V

Klasse60

0,05

0,08

0,015

0,40

0,2

AL: 5.5-6.75

V: 3.5-4.5

Gr.7

Ta9

Klasse12

0,03

0,08

0,015

0,30

0,25

PD: 0,12-0,25

Gr.12

TA10

Klasse 60e

0,03

0,08

0,015

0,30

0,25

MO: 0,2-0,4

Ni: 0,6-0,9

Longitudinale mechanische Eigenschaften bei Raumtemperatur

Grad

ZugfestigkeitRM/MPA (> =)

ErtragsfestigkeitRP0.2 (MPA)

VerlängerungA4D (%)

BereichsreduzierungZ (%)

Gr1

240

140

24

30

Gr2

400

275

20

30

GR5

895

825

10

25

Gr7

370

250

20

25

GR12

485

345

18

25

Titan -Sputterziele

Die gemeinsame Größe des Titan -Sputterziels: φ100*40, φ98*40, φ95*45, φ90*40, φ85*35, φ65*40 usw.

Kann auch gemäß den Anfragen oder Zeichnungen des Kunden anpassen

Zielanforderungen: hohe Reinheit, gleichmäßige Kristallkörner und gute Kompaktheit.

Reinheit: 99,5%, 99,95%, 99,98%, 99,995%.

Titanie -Zielproduktionsprozess

Titanschwamm --- geschmolzen in Titanium-Bar

Titan -Zielmerkmale

1. Niedrige Dichte und hohe Spezifikationsstärke

2. Ausgezeichneter Korrosionsbeständigkeit

3.. Gute Widerstand gegen Wärmewirkung

4. Ausgezeichnete Lagerung der Kryogenik -Eigenschaft

5. Nichtmagnetisch und ungiftig

6. Gute thermische Eigenschaften

7. geringer Elastizitätsmodul


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