Wolfram-Ziel
Produktparameter
| Produktname | Wolfram(W)-Sputtertarget |
| Grad | W1 |
| Verfügbare Reinheit (%) | 99,5 %, 99,8 %, 99,9 %, 99,95 %, 99,99 % |
| Form: | Platte, rund, drehbar, Rohr/Schlauch |
| Spezifikation | Gemäß den Kundenanforderungen |
| Standard | ASTM B760-07, GB/T 3875-06 |
| Dichte | ≥19,3 g/cm³ |
| Schmelzpunkt | 3410°C |
| Atomvolumen | 9,53 cm³/mol |
| Temperaturkoeffizient des Widerstands | 0,00482 l/℃ |
| Sublimationshitze | 847,8 kJ/mol(25℃) |
| Schmelzwärme | 40,13±6,67 kJ/mol |
| Zustand | Planare Wolframzielscheibe, rotierende Wolframzielscheibe, runde Wolframzielscheibe |
| Oberflächenzustand | Polieren oder Alkaliwaschen |
| Verarbeitung | Wolframbarren (Rohmaterial) – Prüfung – Warmwalzen – Richten und Glühen – Alkaliwäsche – Polieren – Prüfung – Verpackung |
Das gespritzte und gesinterte Wolframtarget zeichnet sich durch eine Dichte von mindestens 99 %, einen durchschnittlichen transparenten Texturdurchmesser von maximal 100 µm, einen Sauerstoffgehalt von maximal 20 ppm und eine Ablenkkraft von ca. 500 MPa aus. Es verbessert die Aufbereitung von Rohmetallpulver und optimiert die Sinterfähigkeit, wodurch die Kosten des Wolframtargets stabilisiert werden können. Das gesinterte Wolframtarget besitzt eine hohe Dichte, eine hohe Transparenz – Eigenschaften, die mit herkömmlichen Press- und Sinterverfahren nicht erreicht werden können – und einen deutlich verbesserten Ablenkwinkel, wodurch der Partikelanteil erheblich reduziert wird.
Vorteil
(1) Glatte Oberfläche ohne Poren, Kratzer und sonstige Unvollkommenheiten
(2) Schleif- oder Drehkante, keine Schnittspuren
(3) Unübertroffene Reinheit des Materials
(4) Hohe Duktilität
(5) Homogene Mikrostruktur
(6) Laserbeschriftung Ihres speziellen Artikels mit Name, Marke, Reinheitsgrad, Größe usw.
(7) Sämtliche Sputtertargets, von der Auswahl der Pulvermaterialien und deren Anzahl über die Mischer, die Entgasungs- und HIP-Zeit bis hin zur Bearbeitung und den Verpackungsdetails, werden von uns selbst hergestellt.
Alle diese Schritte gewährleisten, dass ein neues Sputtertarget oder eine neue Methode, sobald sie entwickelt ist, kopiert und beibehalten werden kann, um Produkte von gleichbleibender Qualität zu gewährleisten.
Weitere Vorteile
Hochwertige Materialien
(1) 100 % Dichte = 19,35 g/cm³
(2) Dimensionsstabilität
(3) Verbesserte mechanische Eigenschaften
(4) Gleichmäßige Korngrößenverteilung
(5) Kleine Korngrößen
Appalachen
Wolfram-Targetmaterial wird hauptsächlich in der Luft- und Raumfahrt, der Seltenerdschmelze, bei elektrischen Lichtquellen, chemischen Anlagen, medizinischen Geräten, metallurgischen Maschinen, Schmelzanlagen, der Erdölindustrie und anderen Bereichen eingesetzt.
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