Wolframziel
Produktparameter
| Produktname | Wolfram(W)-Sputtertarget |
| Grad | W1 |
| Verfügbare Reinheit (%) | 99,5 %, 99,8 %, 99,9 %, 99,95 %, 99,99 % |
| Form: | Platte, rund, drehbar, Rohr |
| Spezifikation | Als Kundenanforderungen |
| Standard | ASTM B760-07, GB/T 3875-06 |
| Dichte | ≥19,3 g/cm³ |
| Schmelzpunkt | 3410 °C |
| Atomvolumen | 9,53 cm3/mol |
| Temperaturkoeffizient des Widerstandes | 0,00482 l/°C |
| Sublimationswärme | 847,8 kJ/mol (25 °C) |
| Latente Schmelzwärme | 40,13 ± 6,67 kJ/mol |
| Zustand | Planares Wolframziel, Rotierendes Wolframziel, Rundes Wolframziel |
| Oberflächenzustand | Politur oder alkalische Wäsche |
| Verarbeitung | Wolframbarren (Rohmaterial) – Test – Warmwalzen – Nivellieren und Glühen – Alkalisches Waschen – Polieren – Testen – Verpacken |
Das gesprühte und gesinterte Wolframtarget weist eine Dichte von mindestens 99 %, einen durchschnittlichen transparenten Texturdurchmesser von höchstens 100 µm, einen Sauerstoffgehalt von höchstens 20 ppm und eine Ablenkkraft von ca. 500 MPa auf. Es verbessert die Produktion von Rohmetallpulver. Durch die verbesserte Sinterfähigkeit können die Kosten des Wolframtargets niedrig gehalten werden. Das gesinterte Wolframtarget weist eine hohe Dichte und einen hochtransparenten Rahmen auf, der mit herkömmlichen Press- und Sinterverfahren nicht erreicht werden kann. Der Ablenkwinkel ist deutlich verbessert, wodurch der Partikelausstoß deutlich reduziert wird.
Vorteil
(1) Glatte Oberfläche ohne Poren, Kratzer und andere Unvollkommenheiten
(2) Schleif- oder Drehkante, keine Schnittspuren
(3) Unschlagbare Qualität der Materialreinheit
(4) Hohe Duktilität
(5) Homogene Mikrostruktur
(6) Lasermarkierung für Ihren speziellen Artikel mit Name, Marke, Reinheitsgröße usw.
(7) Alle Teile der Sputtertargets werden von uns selbst hergestellt, von der Artikelnummer des Pulvermaterials über die Mischer, die Ausgasungs- und HIP-Zeit bis hin zum Maschinenpersonal und den Verpackungsdetails.
Alle diese Schritte können Ihnen versprechen, dass ein neues Sputtertarget oder eine neue Sputtermethode, sobald sie erstellt ist, kopiert und beibehalten werden kann, um Produkte von stabiler Qualität zu unterstützen.
Weitere Vorteile
Hochwertige Materialien
(1) 100 % Dichte = 19,35 g/cm³
(2) Dimensionsstabilität
(3) Verbesserte mechanische Eigenschaften
(4) Gleichmäßige Korngrößenverteilung
(5) Kleine Korngrößen
Appalachen
Wolfram-Targetmaterial wird hauptsächlich in der Luft- und Raumfahrt, der Seltenerdschmelze, als elektrische Lichtquelle, in chemischen Geräten, medizinischen Geräten, metallurgischen Maschinen, Schmelzanlagen, der Erdölindustrie und anderen Bereichen verwendet.
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