Wolfram-Target
Produktparameter
| Produktname | Wolfram(W)-Sputtertarget |
| Grad | W1 |
| Verfügbare Reinheit (%) | 99,5 %, 99,8 %, 99,9 %, 99,95 %, 99,99 % |
| Form: | Platte, rund, drehbar, Rohr/Rohr |
| Spezifikation | Ganz nach Kundenwunsch |
| Standard | ASTM B760-07,GB/T 3875-06 |
| Dichte | ≥19,3 g/cm3 |
| Schmelzpunkt | 3410°C |
| Atomvolumen | 9,53 cm3/mol |
| Temperaturkoeffizient des Widerstands | 0,00482 I/℃ |
| Sublimationswärme | 847,8 kJ/mol (25℃) |
| Latente Schmelzwärme | 40,13 ± 6,67 kJ/mol |
| Zustand | Planares Wolframziel, rotierendes Wolframziel, rundes Wolframziel |
| Oberflächenzustand | Polnisch oder alkalisch waschen |
| Verarbeitung | Wolframknüppel (Rohmaterial) – Test – Warmwalzen – Richten und Glühen – Alkaliwäsche – Polieren – Testverpacken |
Das gesprühte und gesinterte Wolframtarget hat die Eigenschaften einer Dichte von 99 % oder mehr, der durchschnittliche transparente Texturdurchmesser beträgt 100 µm oder weniger, der Sauerstoffgehalt beträgt 20 ppm oder weniger und die Ablenkkraft beträgt etwa 500 MPa; Es verbessert die Produktion von unverarbeitetem Metallpulver. Um die Sinterfähigkeit zu verbessern, können die Kosten des Wolframtargets zu einem niedrigen Preis stabilisiert werden. Das gesinterte Wolfram-Target hat eine hohe Dichte, einen hochgradig transparenten Rahmen, der mit der herkömmlichen Press- und Sintermethode nicht erreicht werden kann, und verbessert den Ablenkwinkel deutlich, so dass die Partikelmasse deutlich reduziert wird.
Vorteil
(1) Glatte Oberfläche ohne Poren, Kratzer und andere Unvollkommenheiten
(2) Schleif- oder Drehkante, keine Schnittspuren
(3) Unschlagbare Reinheit des Materials
(4) Hohe Duktilität
(5) Homogene Mikrostruktur
(6) Lasermarkierung für Ihren Sonderartikel mit Name, Marke, Reinheitsgrad usw
(7) Jedes Stück Sputtertargets aus den Pulvermaterialien, Artikel und Nummer, Mischarbeiter, Ausgas- und HIP-Zeit, Bearbeitungspersonal und Verpackungsdetails werden alle von uns selbst hergestellt.
Alle diese Schritte können Ihnen versprechen, dass, sobald ein neues Sputtertarget oder eine neue Sputtermethode erstellt wurde, diese kopiert und aufbewahrt werden können, um stabile Qualitätsprodukte zu unterstützen.
Anderer Vorteil
Hochwertige Materialien
(1) 100 % Dichte = 19,35 g/cm³
(2) Dimensionsstabilität
(3) Verbesserte mechanische Eigenschaften
(4) Gleichmäßige Korngrößenverteilung
(5) Kleine Korngrößen
Appalachen
Wolfram-Targetmaterial wird hauptsächlich in der Luft- und Raumfahrt, beim Schmelzen seltener Erden, in elektrischen Lichtquellen, in chemischen Geräten, medizinischen Geräten, metallurgischen Maschinen, Schmelzgeräten, Erdöl und anderen Bereichen verwendet.
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