Hochreines 99,9 % Nano-Tantalpulver/Tantal-Nanopartikel/Tantal-Nanopulver
Produktparameter
Produktname | Tantalpulver |
Marke | HSG |
Modell | HSG-07 |
Material | Tantal |
Reinheit | 99,9 %–99,99 % |
Farbe | Grau |
Form | Pulver |
Charaktere | Tantal ist ein silbriges Metall, das in seiner reinen Form weich ist. Es ist ein starkes und duktiles Metall und bei Temperaturen unter 150 °C (302 °F) ist dieses Metall ziemlich immun gegen chemische Angriffe. Es gilt als korrosionsbeständig, da es auf seiner Oberfläche einen Oxidfilm aufweist |
Anwendung | Wird als Zusatz in Sonderlegierungen von Eisen- und Nichteisenmetallen verwendet. Oder für die Elektronikindustrie und wissenschaftliche Forschung und Experimente verwendet |
Mindestbestellmenge | 50 kg |
Paket | Vakuumbeutel aus Aluminiumfolie |
Lagerung | unter trockenen und kühlen Bedingungen |
Chemische Zusammensetzung
Name: Tantalpulver | Spezifikation:* | ||
Chemikalien: % | GRÖSSE: 40-400 Mesh, Mikrometer | ||
Ta | 99,9 % min | C | 0,001 % |
Si | 0,0005 % | S | <0,001 % |
P | <0,003 % | * | * |
Beschreibung
Tantal ist eines der seltensten Elemente der Erde.
Dieses platingrau gefärbte Metall hat eine Dichte von 16,6 g/cm3, was doppelt so dicht ist wie Stahl, und einen Schmelzpunkt von 2.996 °C, der damit der vierthöchste aller Metalle ist. Mittlerweile ist es bei hohen Temperaturen sehr duktil, sehr hart und verfügt über ausgezeichnete thermische und elektrische Leitereigenschaften. Tantalpulver wird je nach Anwendung in zwei Typen eingeteilt: Tantalpulver für die Pulvermetallurgie und Tantalpulver für Kondensatoren. Das von UMM hergestellte metallurgische Tantalpulver zeichnet sich durch besonders feine Korngrößen aus und lässt sich leicht zu Tantalstäben, -stäben, -blechen, -platten, Sputtertargets usw. zusammen mit hoher Reinheit formen und erfüllt absolut alle Kundenanforderungen.
Tabelle Ⅱ Zulässige Durchmesserabweichungen für Tantalstäbe
Durchmesser, Zoll (mm) | Toleranz, +/-Zoll (mm) |
0,125~0,187 exkl. (3,175~4,750) | 0,003 (0,076) |
0,187~0,375 exkl. (4,750~9,525) | 0,004 (0,102) |
0,375~0,500 exkl. (9,525~12,70) | 0,005 (0,127) |
0,500~0,625 exkl. (12,70~15,88) | 0,007 (0,178) |
0,625~0,750 exkl. (15,88~19,05) | 0,008 (0,203) |
0,750~1.000 exkl. (19.05~25.40) | 0,010 (0,254) |
1.000~1.500 exkl. (25,40~38,10) | 0,015 (0,381) |
1.500~2.000 exkl. (38,10~50,80) | 0,020 (0,508) |
2.000~2.500 exkl. (50,80~63,50) | 0,030 (0,762) |
Anwendung
Metallurgisches Tantalpulver wird hauptsächlich zur Herstellung von Tantal-Sputtertargets verwendet, der drittgrößten Anwendung für Tantalpulver nach Kondensatoren und Superlegierungen, die hauptsächlich in Halbleiteranwendungen für die Hochgeschwindigkeits-Datenverarbeitung und für Speicherlösungen in der Unterhaltungselektronikindustrie verwendet wird.
Metallurgisches Tantalpulver wird auch zur Verarbeitung zu Tantalstäben, -stäben, -drähten, -blechen und -platten verwendet.
Aufgrund seiner Formbarkeit, hohen Temperaturbeständigkeit und Korrosionsbeständigkeit wird Tantalpulver häufig in der chemischen Industrie, der Elektronik-, Militär-, Maschinenbau- und Luft- und Raumfahrtindustrie zur Herstellung elektronischer Komponenten, hitzebeständiger Materialien, korrosionsbeständiger Geräte, Katalysatoren, Formen und fortschrittlichem optischen Glas verwendet und so weiter. Tantalpulver wird auch in medizinischen Untersuchungen, chirurgischen Materialien und Kontrastmitteln verwendet.