Hochreines 99,9 % Nano-Tantalpulver / Tantal-Nanopartikel / Tantal-Nanopulver
Produktparameter
| Produktname | Tantalpulver |
| Marke | HSG |
| Modell | HSG-07 |
| Material | Tantal |
| Reinheit | 99,9 % bis 99,99 % |
| Farbe | Grau |
| Form | Pulver |
| Charaktere | Tantal ist ein silbriges Metall, das in seiner reinen Form weich ist. Es ist ein festes und dehnbares Metall und bei Temperaturen unter 150 °C (302 °F) weitgehend resistent gegen chemische Angriffe. Es ist bekannt für seine Korrosionsbeständigkeit, da es eine Oxidschicht auf seiner Oberfläche aufweist. |
| Anwendung | Wird als Zusatzstoff in speziellen Legierungen aus Eisen- und Nichteisenmetallen verwendet. Oder für die Elektronikindustrie sowie für wissenschaftliche Forschung und Experimente |
| Mindestbestellmenge | 50 kg |
| Paket | Vakuumbeutel aus Aluminiumfolie |
| Lagerung | unter trockenen und kühlen Bedingungen |
Chemische Zusammensetzung
| Name: Tantalpulver | Spezifikation:* | ||
| Chemikalien: % | GRÖSSE: 40–400 Maschen, Mikron | ||
| Ta | 99,9 % min | C | 0,001 % |
| Si | 0,0005 % | S | <0,001 % |
| P | <0,003 % | * | * |
Beschreibung
Tantal ist eines der seltensten Elemente der Erde.
Dieses platingraue Metall hat eine Dichte von 16,6 g/cm³, was doppelt so hoch ist wie Stahl, und einen Schmelzpunkt von 2.996 °C. Damit ist es das vierthöchste aller Metalle. Es ist bei hohen Temperaturen hochduktil, sehr hart und verfügt über hervorragende thermische und elektrische Leitfähigkeit. Tantalpulver wird je nach Anwendung in zwei Typen unterteilt: Tantalpulver für die Pulvermetallurgie und Tantalpulver für Kondensatoren. Das von UMM hergestellte Tantalpulver zeichnet sich durch besonders feine Körnung aus und lässt sich problemlos zu Tantalstäben, -stangen, -blechen, -platten, Sputtertargets usw. verarbeiten. Es weist eine hohe Reinheit auf und erfüllt alle Kundenanforderungen.
Tabelle Ⅱ Zulässige Durchmesserabweichungen bei Tantalstäben
| Durchmesser, Zoll (mm) | Toleranz, +/-Zoll (mm) |
| 0,125 – 0,187 exkl. (3,175 – 4,750) | 0,003 (0,076) |
| 0,187 – 0,375 exkl. (4,750 – 9,525) | 0,004 (0,102) |
| 0,375~0,500 exkl. (9,525~12,70) | 0,005 (0,127) |
| 0,500 – 0,625 exkl. (12,70 – 15,88) | 0,007 (0,178) |
| 0,625 – 0,750 exkl. (15,88 – 19,05) | 0,008 (0,203) |
| 0,750~1,000 exkl. (19,05~25,40) | 0,010 (0,254) |
| 1.000~1.500 exkl. (25.40~38.10) | 0,015 (0,381) |
| 1.500~2.000 exkl. (38,10~50,80) | 0,020 (0,508) |
| 2.000~2.500 exkl. (50,80~63,50) | 0,030 (0,762) |
Anwendung
Metallurgisches Tantalpulver wird hauptsächlich zur Herstellung von Tantal-Sputtertargets verwendet. Dies ist nach Kondensatoren und Superlegierungen die drittgrößte Anwendung für Tantalpulver und wird vor allem in Halbleiteranwendungen zur Hochgeschwindigkeitsdatenverarbeitung und für Speicherlösungen in der Unterhaltungselektronikindustrie eingesetzt.
Tantalmetallurgisches Pulver wird auch zur Verarbeitung zu Tantalstäben, -stangen, -drähten, -blechen und -platten verwendet.
Aufgrund seiner Formbarkeit, hohen Temperaturbeständigkeit und Korrosionsbeständigkeit wird Tantalpulver häufig in der chemischen Industrie, der Elektronik, dem Militär, dem Maschinenbau und der Luft- und Raumfahrtindustrie eingesetzt, um elektronische Komponenten, hitzebeständige Materialien, korrosionsbeständige Geräte, Katalysatoren, Matrizen, optisches Glas usw. herzustellen. Tantalpulver wird auch in medizinischen Untersuchungen, chirurgischen Materialien und Kontrastmitteln verwendet.
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