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Hochreinheit 99,9% Nano Tantal Pulver / Tantalum Nanopartikel / Tantal -Nanopäder

Kurzbeschreibung:

Produktname: Tantal -Pulver

Marke: Hsg

Modell: HSG-07

Material: Tantal

Reinheit: 99,9%-99,99%

Farbe: Grau

Form: Pulver


Produktdetail

Produkt -Tags

Produktparameter

Produktname Tantal -Pulver
Marke Hsg
Modell HSG-07
Material Tantal
Reinheit 99,9%-99,99%
Farbe Grau
Form Pulver
Charaktere Tantal ist ein silbriges Metall, das in seiner reinen Form weich ist. Es ist ein starkes und duktiles Metall und bei Temperaturen unter 150 ° C (302 ° F) ist dieses Metall recht immun gegen chemischen Angriffe. Es ist bekannt, dass es gegen Korrosion resistent ist, da es einen Oxidfilm auf seiner Oberfläche zeigt
Anwendung Wird als additiv in speziellen Legierungen Eisen- und Nichteisenmetalle verwendet. Oder für die elektronische Industrie und wissenschaftliche Forschung und Experimente verwendet
MOQ 50 kg
Paket Vakuum -Aluminiumfolienbeutel
Lagerung unter trockenem und kühlem Zustand

Chemische Zusammensetzung

Name: Tantal Pulver Spec:*
Chemikalien: % Größe: 40-400mesh, Mikron

Ta

99,9%min

C

0,001%

Si

0,0005%

S

<0,001%

P

<0,003%

*

*

Beschreibung

Tantal ist eines der seltensten Elemente der Erde.

Dieses platingrau gefärbte Metall hat eine Dichte von 16,6 g/cm3, die doppelt so dicht ist wie Stahl, und Schmelzpunkt von 2, 996 ° C wird zum vierthöchsten aller Metalle. In der Zwischenzeit ist es bei hohen Temperaturen stark duktil, sehr harte und ausgezeichnete thermische und elektrische Leitereigenschaften. TantaluTh -Pulver wird gemäß Anwendung in zwei Typen eingeteilt: Tantal -Pulver für Pulvermetallurgie und Tantal -Pulver für Kondensator. Das von UMM produzierte metallurgische metallurgische Pulver ist durch besonders feine Korngrößen gekennzeichnet und kann leicht zu Tantal -Stangen, Stangen, Blech, Platte, Sputterziel und so weiter zusammen mit hoher Reinheit geformt werden und erfüllt alle Anforderungen der Kunden absolut.

Tabelle ⅱ zulässige Durchmesservariationen für tantale Stäbe

Durchmesser, Zoll (mm) Toleranz, +/- Zoll (mm)
0,125 ~ 0,187 EXK (3,175 ~ 4,750) 0,003 (0,076)
0,187 ~ 0,375 EXK (4,750 ~ 9,525) 0,004 (0,102)
0,375 ~ 0,500 EXK (9,525 ~ 12,70) 0,005 (0,127)
0,500 ~ 0,625 EXK (12,70 ~ 15,88) 0,007 (0,178)
0,625 ~ 0,750 EXK (15,88 ~ 19,05) 0,008 (0,203)
0,750 ~ 1.000 EXK (19.05 ~ 25,40) 0,010 (0,254)
1.000 ~ 1.500 exkl. (25,40 ~ 38,10) 0,015 (0,381)
1,500 ~ 2.000 exc (38.10 ~ 50,80) 0,020 (0,508)
2.000 ~ 2,500 exc (50,80 ~ 63,50) 0,030 (0,762)

Anwendung

Das metallurgische Tantal-Pulver wird hauptsächlich zur Erzeugung von Tantal-Sputter-Ziel verwendet, die drittgrößte Anwendung für Tantal-Pulver, nach Kondensatoren und Superlegierungen, die hauptsächlich in Halbleiteranwendungen für die Verarbeitung von Hochgeschwindigkeitsdaten und für Speicherlösungen in der Verbraucherelektronikindustrie verwendet wird.

Tantal -metallurgisches Pulver wird auch zur Verarbeitung in Tantal -Stangen, Stangen, Draht, Blech, Platte verwendet.

Mit Formbarkeit, Hochtemperaturfestigkeit und Korrosionsbeständigkeit wird Tantal-Pulver in der chemischen Industrie, in der Elektronik, in der militärischen, mechanischen und der Luft- und Raumfahrtindustrie häufig verwendet, um elektronische Komponenten, hitzebeständige Materialien, korrosionsbeständige Geräte, Katalysatoren, Stanze, fortschrittliche optische Glässe herzustellen und so weiter. Tantal -Pulver wird auch in medizinischer Untersuchung, chirurgischen Materialien und Kontrastmitteln verwendet.


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