Hochreines 99,9 % Nano-Tantalpulver / Tantal-Nanopartikel / Tantal-Nanopulver
Produktparameter
| Produktname | Tantalpulver |
| Marke | HSG |
| Modell | HSG-07 |
| Material | Tantal |
| Reinheit | 99,9 % bis 99,99 % |
| Farbe | Grau |
| Form | Pulver |
| Charaktere | Tantal ist ein silbriges Metall, das in seiner reinen Form weich ist. Es ist ein starkes und dehnbares Metall und bei Temperaturen unter 150 °C (302 °F) ist dieses Metall weitgehend resistent gegen chemische Angriffe. Es ist bekannt für seine Korrosionsbeständigkeit, da es eine Oxidschicht auf seiner Oberfläche aufweist. |
| Anwendung | Wird als Zusatzstoff in speziellen Legierungen aus Eisen- und Nichteisenmetallen verwendet. Oder für die Elektronikindustrie sowie für wissenschaftliche Forschung und Experimente |
| Mindestbestellmenge | 50 kg |
| Paket | Vakuumbeutel aus Aluminiumfolie |
| Lagerung | unter trockenen und kühlen Bedingungen |
Chemische Zusammensetzung
| Name: Tantalpulver | Spezifikation:* | ||
| Chemikalien: % | GRÖSSE: 40–400 Mesh, Mikron | ||
| Ta | 99,9 % min | C | 0,001 % |
| Si | 0,0005 % | S | <0,001 % |
| P | <0,003 % | * | * |
Beschreibung
Tantal ist eines der seltensten Elemente der Erde.
Dieses platingraue Metall hat eine Dichte von 16,6 g/cm³, was der doppelten Dichte von Stahl entspricht, und einen Schmelzpunkt von 2.996 °C, womit es das vierthöchste aller Metalle ist. Es ist bei hohen Temperaturen hochduktil, sehr hart und weist hervorragende thermische und elektrische Leitereigenschaften auf. Tantalpulver wird je nach Anwendung in zwei Typen unterteilt: Tantalpulver für die Pulvermetallurgie und Tantalpulver für Kondensatoren. Das von UMM hergestellte metallurgische Tantalpulver zeichnet sich durch eine besonders feine Korngröße aus und lässt sich leicht zu Tantalstäben, -stangen, -blechen, -platten, Sputtertargets usw. verarbeiten. Es weist eine hohe Reinheit auf und erfüllt alle Kundenanforderungen.
Tabelle Ⅱ Zulässige Durchmesserabweichungen bei Tantalstäben
| Durchmesser, Zoll (mm) | Toleranz, +/-Zoll (mm) |
| 0,125~0,187 exkl. (3,175~4,750) | 0,003 (0,076) |
| 0,187~0,375 exkl. (4,750~9,525) | 0,004 (0,102) |
| 0,375~0,500 exkl. (9,525~12,70) | 0,005 (0,127) |
| 0,500~0,625 exkl. (12,70~15,88) | 0,007 (0,178) |
| 0,625~0,750 exkl. (15,88~19,05) | 0,008 (0,203) |
| 0,750~1,000 exkl. (19,05~25,40) | 0,010 (0,254) |
| 1.000~1.500 exkl. (25.40~38.10) | 0,015 (0,381) |
| 1.500~2.000 exkl. (38,10~50,80) | 0,020 (0,508) |
| 2.000~2.500 exkl. (50,80~63,50) | 0,030 (0,762) |
Anwendung
Metallurgisches Tantalpulver wird hauptsächlich zur Herstellung von Tantal-Sputtertargets verwendet. Dies ist nach Kondensatoren und Superlegierungen die drittgrößte Anwendung für Tantalpulver und wird vor allem in Halbleiteranwendungen für die Hochgeschwindigkeitsdatenverarbeitung und für Speicherlösungen in der Unterhaltungselektronikindustrie eingesetzt.
Metallurgisches Tantalpulver wird auch zur Verarbeitung zu Tantalstäben, -stangen, -drähten, -blechen und -platten verwendet.
Aufgrund seiner Formbarkeit, hohen Temperaturbeständigkeit und Korrosionsbeständigkeit wird Tantalpulver häufig in der chemischen Industrie, der Elektronik, dem Militär, dem Maschinenbau und der Luft- und Raumfahrtindustrie verwendet, um elektronische Komponenten, hitzebeständige Materialien, korrosionsbeständige Geräte, Katalysatoren, Matrizen, hochentwickeltes optisches Glas usw. herzustellen. Tantalpulver wird auch für medizinische Untersuchungen, chirurgische Materialien und Kontrastmittel verwendet.
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